對下列產品及服務進行國際公開競爭性招標,于2024-01-12在 公告。本次招標采用傳統招標方式,現邀請合格投標人參加投標。1、招標條件項目概況:甬江實驗室因發展需要,需采購化學機械拋光機(金屬)設備、等離子體增強化學氣相沉積設備、高深寬比磁控濺射設備各1套。資金到位或資金來源落實情況:項目所需資金已經落實。項目已具備招標條件的說明:項目已具備招標條件。2、招標內容招標項目編號:0762-2441CBNB2001招標項目名稱:甬江實驗室采購化學機械拋光機(金屬)等設備項目項目實施地點:中國浙江省招標產品列表(主要設備):
3、投標人資格要求投標人應具備的資格或業績:3.1.1投標人必須是投標產品的制造商或投標產品的制造商授權的代理商,如為代理商需提供制造商針對本項目的授權書;是否接受聯合體投標:不接受未領購招標文件是否可以參加投標:不可以4、
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編輯:chinabidding.co
序號 | 產品名稱 | 數量 | 簡要技術規格 | 備注 |
1 | 化學機械拋光機(金屬)設備 | 1套 | 將待拋光晶圓在一定的分區下壓力及拋光液(由超細磨料顆粒、化學氧化劑和表面活性劑等液體介質組成的混合液)的作用下相對于一個拋光墊作旋轉運動,借助磨粒的機械磨削及液體介質的腐蝕作用來選擇性完成對晶圓表面金屬材料(Ti、TiN、Ta、TaN、W、TiW、Cu等)去除,并獲得光潔表面。 | |
2 | 等離子體增強化學氣相沉積設備 | 1套 | 借助微波或射頻使氣體電離,局部形成等離子體,在較低的溫度下沉積薄膜。用于沉積SiO2、SiNx、SiON、P-doped SiO2、Ge-doped SiO2、BPSG、FSG等薄膜。 | |
3 | 高深寬比磁控濺射設備 | 1套 | 使用磁控濺射方式用于深硅刻蝕后的硅通孔孔壁沉積阻擋層(Ti或Ta)及電鍍種子層(Cu),防止金屬與Si相互擴散的同時作為后續電鍍孔內填充金屬的導電層。 |
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